전도성이 없는 시료 및 전도성이 약한 시료의 표면에 플라즈마를 생성하여 금속박막을 형성시키는 장비로 2차 전자(SE)의 양을 증가시킴으로써 고해상도 영상
이미지를 획득합니다.
전자현미경 분석시, 필수적으로 거쳐야 하는 전처리 장비입니다. 타겟은 골드(Au), 백금(Pt) 를 주로 사용하여 시료 표면에 증착(도금)을
시켜 사용하며 시료의 상태에 따라서 전압을 조절하여 두께를 조절할 수 있습니다.
Degree of Vacuum | 2.0 x 10-1 tor |
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Ion Current | 1 to 10mA (1mA/step) |
Target Material | Au or Pt |
Chamber Size | Φ140mm(D) x 100mm(H) |
Sample Stage | Φ50mm(D) x 30mm(H) |
Target Size | Φ50mm(D) |
Sputter Time | 1 to 600sec (1sec/step) |
Vacuum Pump | 100L/min, Rotary Pump(without) |
Dimension | 380(W )x 240(D) x 250(H)mm, 10kg |
분석결과
반도체형 4채널 Detector 로 구성되어 있으며 SEM 장비에 부가적으로 장착할 수 있습니다. 정확한 경계면을 구분할 수 있으며, 시료를 코팅하지 않고 저 진공 영역에서 분석할 수 있습니다.
EDS 는 전자현미경을 통해 관찰 가능한 모든 구조에서 화학적 성분 정보를 알 수 있습니다. Boron(5) 부터 Americium(95) 범위 이내의 모든 원소검출이 가능하며
원소의 함량을 Atomic % 와 Weight % 로 출력합니다.
거친 표면, 평탄한 표면, 작은 입자 분석이 가능하며, 1~30kV 까지 고전압 및 저전압 하에서 측정이
가능 합니다.
Mini-SEM 과 Normal-SEM 모든 제품에 EDS 장착이 가능하며 액체질소를 사용하지 않은 SDD 타입으로 제공합니다.
샘플 표면의 정성ㆍ정량 결과와 Mapping & Line Scan 분석 결과를 하나의 Report 로 구성할 수 있습니다.